【48812】迈为股份请求甚高频真空镀膜设备专利确保了膜层的均匀性

　　金融界 2024 年 7 月 16 日音讯，天眼查知识产权信息数据显现，姑苏迈为科技股份有限公司、姑苏迈正科技有限公司请求一项名为“甚高频真空镀膜设备“，公开号 CN3.X，请求日期为 2024 年 4 月。

　　专利摘要显现，本请求触及一种甚高频真空镀膜设备。甚高频真空镀膜设备包含射频源、真空腔体及距离设置于真空腔体内部的上电极模组和下电极模组，上电极模组与下电极模组间构成有镀膜电场，上电极模组包含背板及喷淋头，背板衔接射频源及用于通入工艺气体，射频源的频率规模为 10MHz-200MHz；喷淋头装置于背板，其违背背板的一侧设置有介质涂层。经过设置射频源的频率规模为 10MHz-200MHz，确保了膜层的均匀性；经过设置喷淋头违背背板的一侧设置有介质涂层，可以终究靠改动介质涂层的厚度和介电常数以调理处于上电极模组和下电极模组边际的电场强度，确保上电极模组和下电极模组之间构成的镀膜电场的均匀性，逐渐提高镀膜过程中膜层的均匀性。